⚡️ Китай. Выпуск передовых чипов в течение десяти лет

Профессор Квон Сок-джун из Университета Сонгюнгвана: Китай способен создать собственный аналог литографических машин компании ASML в течение примерно 10 лет. Они необходимы для производства самых передовых микросхем.

Китай активно развивает оборудование для фотолитографии: источники света, оптику и прецизионную механику. На выставке Semicon China уже демонстрировались отечественные установки DUV-литографии, а некоторые стартапы экспериментируют с плазменными источниками света.

Эксперт отмечает, что Китай делает ставку на масштаб, поскольку инженеры могут проводить значительно больше экспериментов и быстрее накапливать опыт.
💥 При поддержке государства и огромного внутреннего рынка страна рассчитывает добиться технологической независимости в области полупроводников.

Пока же китайские фирмы входят в число основных клиентов ASML)

👉 Остаемся в теме по ссылке