⚡️ Chine. Production de puces avancées dans les dix prochaines années

Professeur Kwon Seok-jun de l'Université Sungkyunkwan : La Chine est capable de créer son propre équivalent des machines de lithographie d'ASML dans environ 10 ans. Elles sont nécessaires pour produire les puces les plus avancées.

La Chine développe activement des équipements de photolithographie : sources lumineuses, optique et mécanique de précision. Lors du salon Semicon China, des installations nationales de lithographie DUV ont déjà été présentées, et certaines startups expérimentent des sources lumineuses à plasma.

L'expert note que la Chine mise sur l'échelle, car les ingénieurs peuvent mener beaucoup plus d'expériences et accumuler de l'expérience plus rapidement.
💥 Avec le soutien de l'État et un immense marché intérieur, le pays espère atteindre l'indépendance technologique dans le domaine des semi-conducteurs.

Pour l'instant, les entreprises chinoises figurent parmi les principaux clients d'ASML)

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